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国内专利
一种多孔分离膜的间歇式等离子体改性方法
专利类别
发明授权
申请号
CN201310188878.8
申请日期
2013/5/21
第一发明人
沈飞; 万印华; 康英珂; 闫会; 吴欢欢; 刘丽霞
专利授权日期
2016/4/6
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