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技术成果
技术介绍显示芯片用铜、钼刻蚀液国内目前主要依赖于进口，并且体系含氟，导致刻蚀后的芯片基板易被腐蚀，降低良品率。本项目开发了系列新型无氟的铜、钼快速刻蚀液，可以实现铜、钼等金属的可控、快速刻蚀，得到具有特定刻蚀角度的镀层，刻蚀后的芯片基板干净、无残留以及不被腐蚀。与现有的刻蚀液相比，具有污染性小、良品率高等优点，该刻蚀液可应用于微米级显示芯片的刻蚀。
技术特点实现国内自主研发快速刻蚀液的替代进口。
示范与应用京东方
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