过程工程所参与“芯片用超高纯电子级磷酸及高选择性蚀刻液生产关键技术”项目获2019年度国家科技进步二等奖

文章来源：发布时间：2020-01-10【打印】【关闭】

　　过程工程所参与的“芯片用超高纯电子级磷酸及高选择性蚀刻液生产关键技术”项目，突破了芯片用超高纯电子级磷酸和高选择性蚀刻液的进口替代难题，于1月10日上午，被授予2019年度国家科技进步二等奖。

　　项目由湖北兴发化工集团股份有限公司、中国科学院过程工程研究所、武汉工程大学、湖北兴福电子材料有限公司四家单位完成。围绕国家化学和电子工业重大战略需求，过程工程所绿色化工研究部的杨超、华超等研究员与上述企业合作，发明了高纯黄磷与电子级磷酸规模化生产关键技术，实现了高端芯片用超高纯电子级磷酸和高选择性蚀刻液的国产化。